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１、前言
    我國是一個陶瓷墻地磚的生產(chǎn)大國。從１９９５年起產(chǎn)量突破１５億平方米的大關(guān)，１９９６年雖然略有下降，但仍然達(dá)到１３．５７億平方米１９９７年甚至達(dá)到１８．４２億平方米。針對建材業(yè)發(fā)展過程中生產(chǎn)過剩、價格下滑、結(jié)構(gòu)失衡等弊端，今年起國家將實行“控制總量、調(diào)整結(jié)構(gòu)”的戰(zhàn)略目標(biāo)。其中對建筑陶瓷提出的控制和調(diào)整目標(biāo)為總量控制在１０億平方米以下，而高檔產(chǎn)品占總量的比例要從目前的１０％提高到２０％－２５％。
    何謂高檔產(chǎn)品﹖產(chǎn)品的內(nèi)在質(zhì)量好和外觀質(zhì)量好無疑是高檔產(chǎn)品的必要條件，而陶瓷墻地磚是一種裝飾為主要功能的產(chǎn)品，以前有人稱為“陶瓷飾面磚”。因此，提高釉面質(zhì)量，是提高陶瓷墻地磚外觀質(zhì)量和整個產(chǎn)品檔次的重要途徑和措施。
    目前國內(nèi)大多數(shù)墻地磚生產(chǎn)工廠，釉面點狀缺陷（包括斑點、落臟、干洞、凹坑等缺陷）仍然是釉面質(zhì)量進(jìn)一步提高的主要困擾，特別是斑點、落臟等，一般占產(chǎn)品總產(chǎn)量的１－５％甚至更高。（一般工廠這項標(biāo)準(zhǔn)均以≤ｌｍｍ，如果按高檔產(chǎn)品的要求≤０．５ｍｍ則所占的比例會大大增加）
    為了解決點狀缺陷，最好的辦法是從點狀缺陷的分類及各類點狀缺陷的形成原因以至機(jī)理分析入手，針對產(chǎn)生的原因和機(jī)理，對癥下藥，現(xiàn)將筆者工作中的點滴體會整理如下，僅供同行們參考。
２、釉面點狀缺陷的定義及分類
    ２．１定義 點狀缺陷是釉面出現(xiàn)的斑點、落臟、干洞、凹坑、棕眼等單個分布的缺陷的總稱，是區(qū)別于色差、色臟等片狀缺陷的一類缺陷。
    常見點狀缺陷術(shù)語
    ２．１．１斑點制品表面的異色污點。
    ２．１．２落臟釉面或產(chǎn)品表面附著的不同顏色且凸出釉面的異物。
    ２．１．８棕眼（又稱針孔、毛孔）釉面出現(xiàn)的針刺樣小孔。有的工廠把在釉面上的小孔稱之為針孔。
    ２．１．４干洞施化妝土及面釉的產(chǎn)品，釉面出現(xiàn)的連接化妝土的較深的凹洞（也有工廠將這類連接化妝土的較深的凹洞稱為棕眼）。
    ２．１．５凹坑施化妝土及面釉的產(chǎn)品，釉面產(chǎn)生的圓形下凹缺陷。本文分為冷態(tài)凹坑和熱態(tài)凹坑。
    ２．１．６熔洞因易熔物熔融而讓制品表面產(chǎn)生的連接坯體的凹洞，一般為較深。
    ２．１．７ 滴釉由于施釉設(shè)備（一般為甩釉機(jī)）釉點下滴而形成的凸出釉面，與釉同色之缺陷。
    ２．１．８ 釉泡釉面上可見的氣泡（包括開口泡閉口泡）。
    ２．２ 分類從生產(chǎn)實踐中，點狀缺陷可簡略分類如下
    ２．２．１ 按顏色分黑色、墨綠色、棕色、與釉同色。
    ２．２．２ 按形狀分圓形或近似圓形、不規(guī)則多邊形。
    ２．２．３ 按是否高出或低于釉面分凸出釉面、凹下釉面、與釉面平齊。
    ２．３ 常見點狀缺陷一般特征見下表：

    當(dāng)然，各個工廠工藝流程不同，設(shè)備水平有差異及環(huán)境不同，因此出現(xiàn)的常見點狀缺陷的種類，比例各有不同，而且對這些缺陷的名稱叫法也各不盡相同，這里為了討論下文中問題方便，只能采用本公司的習(xí)慣叫法，僅供參考。
３、點狀缺陷的產(chǎn)生原因和克服途徑
    ３．１ 斑點
    ３．１．１ 產(chǎn)生原因
（１） 釉用原料中含有鐵和鐵的化合物、黑云母等
（２） 原料存放或加工過程中混入鐵屑、銅屑、焊渣等
（３） 泥漿和釉漿除鐵設(shè)施故障（如篩網(wǎng)破）或工藝失控（如溢漿等）未能除盡鐵質(zhì)和雜質(zhì)
（４） 環(huán)境不好，半成品表面，落有異物，而人窯時未清理干凈
（５） 燃料含硫量過高，燒成時與鐵質(zhì)化合而生成硫化鐵；
    ３．１．２ 克服途徑
（１） 釉用原料要進(jìn)行精選，每種原料進(jìn)廠必須要經(jīng)過檢驗，使用成釉的工廠必須有一套有效的檢驗程序
（２）改善原料存放，加工過程的環(huán)境和設(shè)施，盡可能減少存放和加工過程中混入鐵屑、銅屑及其他雜質(zhì)
（３）完善泥漿、釉漿的除鐵設(shè)施和工藝，特別是要注意控制漿料經(jīng)過除鐵裝置時的流量，不能太大，觸變性不能過高
（４）對含硫量較高的燃料要進(jìn)行脫硫處理
（５）在施釉后，釉面還未干的坯體要加以防護(hù)，不讓臟物落在未干的釉面上窯前應(yīng)裝一負(fù)壓吸塵裝置或吹灰風(fēng)機(jī)，不讓半成品表面的臟物進(jìn)人窯爐。
    ３．２ 落臟
    ３．２．１ 產(chǎn)生原因
    （１）貯釉桶中落入雜質(zhì)
    （２）半成品施釉存放，運送過程中，特別是釉面未干之前落入臟物，入窯之前未能清除
    （３）儲坯車，窯具上的臟物粒子落在釉坯表面，而入窯之前又沒有及時清除
    （４）窯頂上的耐火砂漿，釉料的揮發(fā)物和風(fēng)管上的臟物落在制品表面
    （５）助燃風(fēng)機(jī)的吸人口的過濾設(shè)備失效，吸人臟物
    （６）磚坯與磚坯之間相互擠在一起，把一些容易碰落的小結(jié)構(gòu)碰下來，而通過氣流作用落在剛好熔融的表面上，例如有一種叫ＳＰＡＣＥＲ的凸緣磚（每邊有二個凸耳）就很容易造成這類落臟。
    ３．２．２ 克服途徑
    （１）改善釉漿的管理，出漿及施釉之前釉漿要過篩，必要時要加大篩的目數(shù)，有些工廠曾經(jīng)用到１５０目以上
    （２）施釉后釉面未干的產(chǎn)品要加防護(hù)設(shè)施，防止落入臟物
    （３）車間的生產(chǎn)環(huán)境要好，在同一車間內(nèi)幾條生產(chǎn)線生產(chǎn)的噴釉，施云彩機(jī)一定要有吸塵罩，防止色點落在其他生產(chǎn)線的釉面上。云彩機(jī)、甩釉機(jī)施完釉后，一定要將護(hù)罩等沖洗干凈、防止生產(chǎn)下一批產(chǎn)品時落下色點
    （４）如用儲坯車，要定期清理。窯具要經(jīng)常涂氧化鋁，（如果用窯具的話）陶輥磨后也要涂上涂料。
     （５） 定期清理窯吊頂、窯墻、風(fēng)管。檢查助燃風(fēng)機(jī)吸入口除塵裝置。
     （６） 燒制帶凸緣的ｓｐａｃｅｒ類產(chǎn)品時，要注意磚與磚之間在釉料的高溫熔融階段，磚坯不要擠得太緊，并要調(diào)整窯內(nèi)的壓力，使輥上的壓力盡可能大于輥下壓力。如果是負(fù)壓，要讓輥下的負(fù)壓的絕對值大于輥上負(fù)壓絕對值。
    ３．３ 棕眼
    ３．３．１ 產(chǎn)生原因
    （１） 釉的始熔溫度過低，高溫粘度過高。
    （２） 熔塊熔化不透，夾有生料。
    （３） 化妝土保水性差，使施面釉時滲水過急，坯體空隙的氣體排出過急，突破釉面而形成小孔，而釉面高溫粘度較大又來不及熔平。
    （４）施釉時坯體溫度過高，過干或噴水過少，使釉漿滲透坯體的速度過快
     （５） 施釉前未將吸附在坯體表面的灰塵雜質(zhì)等清除干凈
     （６） 預(yù)熱帶氧化段的輥下溫度過低，坯體和釉料中含有較高溫度下才分解氧化排出氣體的雜質(zhì)，氣體未完全排出，釉層已開始封閉
     （７） 燒成溫度過高，釉面過燒，出現(xiàn)小針孔。
     ３．３．２克服辦法
    （１） 調(diào)整面釉配方，適當(dāng)提高釉的始熔溫度，降低高溫粘度
    （２） 提高熔塊熔化質(zhì)量，選擇質(zhì)量好的熔塊
    （３） 改善化妝土的保水性，適當(dāng)增加保水性較好的原料，如增加優(yōu)質(zhì)高嶺土、球粘土的含量，也可以適當(dāng)增加添加劑或粘結(jié)劑的含量，如ＣＭＣ，ＶＣ－Ａｌｌ９（阿米索羅）
    （４） 保證施釉后，坯體未干之前釉面的清潔
    （５） 調(diào)整并控制好燒成溫度，特別是預(yù)熱帶氧化段的溫度，使一些需氧化的物質(zhì)在釉面始熔之前就氧化完全，氣體提前排出
    （６） 分別試驗配方中各種原料在９００℃以前和１２００℃前的燒失量，如果發(fā)現(xiàn)某原料后期燒失過大，及時采取補救措施（預(yù)燒）和更換
    （７） 適當(dāng)降低燒成溫度或提高面釉的成熟溫度范圍。
    ３．４ 干洞
    （１） 立式干燥窯調(diào)節(jié)不當(dāng)，或者由于施釉線停止時間過長，以至施釉前坯溫過高噴水量又沒有及時調(diào)整，以至使坯體施化妝土?xí)r溫度過高，施完化妝土后肉眼就可看到小孔
    （２） 化妝土的粘度過大，帶入氣泡不易排除，保濕性不好，粘結(jié)性不好，坯溫高時收縮過快
    （３） 面釉的釉漿性能不好，粘度過大，氣泡不易排除，保水性不好，收縮過快
    （４） 噴霧塔中積聚的干粉集中在一起，沒有經(jīng)過陳腐均勻，在坯體中形成收縮不均勻區(qū)
    （５） 坯體，化妝土的原料不純，有在較高溫下分解的雜質(zhì)
    （６） 噴水與化妝土之前的距離，施釉與施化妝土之間所設(shè)位置不當(dāng)
    ３．４．４ 克服途徑
    （１） 立式干燥器要及時調(diào)節(jié)，讓出坯坯溫穩(wěn)定、均勻（一般不超過９０℃），增加坯溫紅外線自動連續(xù)測量和顯示裝置，并根據(jù)坯溫的升高及時調(diào)節(jié)噴水量，最好能根據(jù)坯溫自動調(diào)節(jié)噴水量
    （２） 改圓錐形霧焰的噴嘴為刀形霧焰噴嘴
    （３） 控制化妝土漿的性能，嚴(yán)格控制細(xì)度、流速、比重、保濕性、粘結(jié)性、必要時用球粘土、ＣＭＣ、ＰＣ－６７和ＶＣ－Ａｌｌ９（阿米索羅）進(jìn)行調(diào)整
    （４）控制面釉的細(xì)度、流速、比重、保濕性、粘結(jié)性能，必要時用ＣＭＣ，ＰＣ－６７，ＶＣ－Ａｌｌ９進(jìn)行調(diào)整
    （５）改變化妝土的施布方法，例如改為淋化妝土
    （６） 噴霧干燥生產(chǎn)過程中應(yīng)清除從排風(fēng)管塌下來的干粉，對新噴出的粉料一定要陳腐２４小時以上才能使用
    （７） 通過化學(xué)分析調(diào)整配方，更換原料、清除坯料、釉料、化妝土中的高溫下分解的物質(zhì)
    （８） 正確調(diào)整從噴水到施化妝土，從施化妝土到施面釉的距離。
    ３．５ 凹坑
    建議將凹坑分為冷態(tài)凹坑和熱態(tài)凹態(tài)。
    冷態(tài)凹坑指施完釉后肉眼就可見到的凹坑。
    熱態(tài)凹坑指施釉之后肉眼不能看見，而燒成后才能看見的凹坑。
    ３．５．１ 產(chǎn)生原因分析
    （１） 原料、釉料、化妝土中帶有低熔點物質(zhì)，配方中添加ＣＭＣ或ＳＴＰＰ等比例不當(dāng)。粒度分布過粗或粗細(xì)不均勻。
    （２） 噴霧干燥風(fēng)管落下的干粉集中在一起沒有清除，壓型后引起坯體局部收縮不勻。
（３）噴水、化妝土、面釉及添加劑中及壓縮空氣中有油污染。
（４） 噴水不均勻或噴水后有水滴在坯體表面，引起局部吸收化妝土或面釉不好。
    （５） 化妝土或釉漿中有氣泡不易排除。
    （６） 施釉線上的大環(huán)境不好，空氣受粉塵或其他物質(zhì)（例如印花之前固定釉面的膠水）微粒污染，在釉面沒有干燥之前落入塵?；蛳鹉z屑等
    （７） 面釉中的ＣＭＣ變質(zhì)、發(fā)酵、施面釉后就出現(xiàn)冷態(tài)凹坑
    （８） 面釉始熔溫度低，高溫粘度大，化妝土的燒結(jié)溫度過低，燒成時氣體排出之后來不及熔平產(chǎn)生熱態(tài)凹坑。
    ３．５．２ 克服之途徑
    （１） 加強進(jìn)料檢驗，防止低熔點物質(zhì)混入
    （２） 粉料一定要經(jīng)過２４小時以上陳腐，讓噴霧干燥后的粉料水分均勻，電解質(zhì)晶體分解，假顆粒分散開，干粉粒吸入一定水分
    （３） 檢查儲釉、化妝土、面釉之容器，攪拌機(jī)、輸送和噴水、噴釉之壓縮空氣中是否有油污，必要時加適量的洗潔凈、萬潔靈分散之
    （４） 檢查噴水嘴的霧化情況，建議用刀形霧焰的噴嘴代替圓錐形噴嘴。檢查噴水后是否還有大點水滴滴在坯面上
    （５） 施釉（淋釉、甩釉（打點））后的產(chǎn)品，在釉面未干之前要設(shè)防護(hù)罩。要有專人檢查施釉后有沒有落臟。發(fā)現(xiàn)環(huán)境不好，要及時糾正，制作高亮釉的車間內(nèi)所有的噴釉、噴膠水裝置都必須裝吸塵裝置，防止外逸。
    （６） 熱天要防止面釉中的ＣＭＣ變質(zhì)可采用現(xiàn)磨現(xiàn)用，縮短使用周期的辦法，或者將面釉存放在陰涼處，或在面釉中加入防腐劑。
    （７） 適當(dāng)提高預(yù)熱帶的坯溫，提高面釉的始熔溫度和化妝土的燒結(jié)溫度，使氣體排出后釉面能及時熔平。
    ３．６ 熔洞
    ３．６．１ 產(chǎn)生原因分析
    （１） 粉料、釉料化妝土運輸過程中帶入雜質(zhì)及粉料、釉料、化妝土中存在低熔點物質(zhì)，在過篩中又未能除去，在沒有施化妝土的面釉中使面釉局部熔點降抵，引起較深的熔洞
    （２） 噴霧干燥粉料陳腐時間不夠，電解質(zhì)、燃燒不完全物和其他物質(zhì)分布不均勻或吸附在鐵點和其他帶色金屬一起發(fā)生作用，引起帶色熔洞
    ３．６．２ 克服途徑
    （１） 嚴(yán)格粉料最后一道過篩，防止大粒低熔點雜質(zhì)混入
    （２） 控制噴霧干燥粉料的陳腐時間，最好達(dá)到２４ｈ以上，讓“聚集”在一起的鐵點、電解質(zhì)顆粒和其他低熔點物質(zhì)分解
    （３） 泥漿篩控制在１００目以上，遄釉篩控制在１２０－１５０目，化妝土篩控制在１８０目。
    ３．７ 滴釉
    ３．７．１ 產(chǎn)生原因
    （１） 甩釉機(jī)沒有按規(guī)定時間及時清洗
    （２） 釉漿的觸變性過大
    ３．７．２ 解決途徑
    （１） 定時清洗甩釉機(jī)
    （２） 調(diào)整釉漿的觸變性
    ３．８ 釉泡
     ３．８．１ 產(chǎn)生原因分析
    （１） 坯料中含有較高溫下分解的有害雜質(zhì)的原料過多
    （２） 釉料中含硫酸鹽、碳酸鹽、有機(jī)物過多或含過量的堿性氧化物
    （３） 釉料的始熔溫度過低，高溫粘度高，使坯體分解出的氣體無法順利排出
    （４） 坯體中混入碳粒、膠屑、機(jī)油等有機(jī)物
    （５） 施釉時釉漿粘度過大，“包裹”有大量的氣體并匯集于釉層中
    （６） 由于釉漿流動，釉料中的可溶性鹽聚集在坯體的邊緣處
    （７） 燒成曲線不合理，預(yù)熱帶升溫過急或燒成溫度過高。
    ３．８．２ 克服途徑
    （１） 減少坯料中較高溫分解產(chǎn)生氣體的原料的含量，用低灼減量的原料取代
    （２） 調(diào)整釉料配方，提高始熔溫度或降低高溫粘度
    （３） 改善粉料加工、存放、輸送的環(huán)境和設(shè)備，防止有機(jī)物混入
    （４） 制釉時先把可溶性鹽類制成熔塊，熔塊水淬后應(yīng)充分水洗
（５）改進(jìn)施釉方法和操作
（６） 調(diào)整和控制好燒成曲線，預(yù)熱帶氧化段的溫度可適當(dāng)提高，氧化氣氛可適當(dāng)增強。